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半導體潔凈室氣體分析監測系統通過污染物源頭控制、傳播控制，實時監控污染物濃度并結合多級過濾器以及新風系統來實現，持久監測AMC濃度，有助于掌握污染物源頭、穩定生產、預防過濾器突發性壽命減少等。

煤自燃束管監測特點：粉塵過濾器、單管、束管、分路箱、抽?泵、?體采樣控制柜、監控微機、懸臂梁?克風光聲光譜多?體分析儀、熱導多?體分析儀、打印輸出設備、網卡、系統軟件組成。

空氣分子污染物監測系統快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業要求之一。深紫外光刻工藝特別關注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測量，當這些氣體與化學放大光刻膠反生反應 時，將深深的影響半導體器件質量。

潔凈室環境中的空氣分子污染物AMC，內部來自建筑材料釋出、設備和材料釋出、腐蝕和光刻等工藝過程中化學藥品逸散、人員產生、管路泄露、設備維護修理時散發等，外部來自環境空氣中存在的氣相污染物，以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室。

AMC監測快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業要求之一。